Материалы для полировки и шлифования
Материалы для полировки:
• Полировальные и притирочные пленки, ленты и ткани
• Алмазные порошки для полировки
• Полировальные суспензии и диспергаторы
• Полировальные диски, алмазная паста, воск,
антистатический очиститель
• Шлифовальные диски на полимерной связке
• Шлифовальные диски на металлической связке
• Шлифовальные диски на керамической связке
• Шлифовальные диски с гальваническим покрытием
• Керамические шлифовальные диски CBN
Для подбора и заказа материалов для полировки и шлифовальных дисков обращайтесь к менеджерам компании
Email: info@polishpro.ru
Краткое описание материалов для полирования
Полировальные и притирочные пленки, ленты и ткани |
|||
| Притирочная пленка | Ультратонкая полировальная лента | Полировальная лента CF | Полировальная лента с алмазными частицами |
| На основе высокопрочного полиэстера. Покрыты откалиброванными минералами, такими как: алмаз, оксид алюминия, карбид кремния, оксид кремния, оксид церия. Могут поставляться с клейким слоем или без него. Доступны в виде листов, дисков и рулонов для использования с любым типом оборудования. Применяются для полировки оптоволоконных разъемов, роликов, жестких дисков, металлических деталей и т.д. | На основе PET и покрыты точно откалиброванными минералами. С помощью ленты можно добиться равномерной и качественной полировки быстрее и проще, что помогаеь снизить затраты. Испольуется для полировки твёрдых материалов, таких как карбид, керамика, твёрдые металлы, сплавы и композиты. Прецизионное покрытие обеспечивает равномерную тонкую полировку. | Лента для полировки CF изготавливается путём равномерного нанесения порошка оксида алюминия микронной градации на основу из ПЭТ плёнки. Применяется для выравнивания выступающих точек и устранения дефектов в процессе производства цветных фильтров для ЖК дисплеев. | Полировальная лента содержит алмазные зёрна микронного размера, состоящие из ультрамелких алмазных частиц. В процессе обработки она работает по принципу микронного шлифовального камня, гарантируя гладкую поверхность и интенсивный съём материала. При эксплуатации зёрна постепенно измельчаются, формируя полирующую цепочку, что обеспечивает равномерность обработки и продлевает ресурс ленты |
| Полировальная пленка с ворсом | 3D структурированная пленка | Пленки для микрофинишной обработки в рулонах | Ткань для полировки ЖК-панелей |
| Полировальная плёнка с ворсистым слоем состоит из абразивных частиц микро‑ или субмикронного размера, нанесённых на поверхность ворса. Она относится к категории фиксированных абразивов, но при этом обладает хорошей гибкостью в процессе полировки. | 3D структурированные плёнки имеют повторяющиеся трёхмерные узоры — кубические, пирамидальные, призматические, ромбовидные и др. Внутри узоров содержатся мелкодисперсные абразивы. Узоры имеют равномерную высоту и обеспечивают стабильное и долговечное полирующее действие. | Изготавливаются путём равномерного нанесения абразивных зёрен на высокопрочную ПЭТ‑плёнку, что обеспечивает высокую производительность и позволяет достигать зеркального качества поверхности. В качестве абразивных материалов доступны оксид алюминия, карбид кремния, алмаз и другие — для удовлетворения различных требований к обработке поверхностей с разной твёрдостью. | Ткань для полировки LCD‑панелей состоит из мелкодисперсных абразивов, нанесённых на текстильную основу. Материал демонстрирует высокую эффективность очистки: удаляет остатки смолы, а также осколки стекла в процессе обработки LCD‑панелей. |
Алмазные порошки для полировки |
|||
| Детонационный поликристаллический алмазный порошок | Монокристаллический алмазный порошок | Монокристаллический алмазный порошок с шероховатой поверхностью | Детонационный наноалмазный порошок |
| Поликристаллический алмазный порошок (PCD) синтезируется детонационным методом в условиях контролируемого взрыва. По сравнению с монокристаллическим алмазом, PCD характеризуется увеличенным количеством режущих кромок, повышенной интенсивностью съёма материала, выраженным эффектом самозатачивания. Оптимален для прецизионной обработки сверхтвёрдых субстратов. | Монокристаллический алмазный порошок изготавливается из высококачественного алмазного сырья посредством дробления, формообразования, сортировки и ряда других технологических процессов. Монокристаллический алмазный порошок отличается острой кромкой и высокой твёрдостью. | Монокристаллический алмазный порошок с шероховатой поверхностью ( RCD) получают из монокристаллического алмазного порошка путём обработки по специальной технологии. По эксплуатационным характеристикам RCD‑порошок ближе к поликристаллическому алмазу. В отличие от обычного монокристаллического алмазного порошка, RCD‑порошок имеет более шероховатую поверхность. Он работает как множество мелких режущих кромок: снижает шероховатость обрабатываемой поверхности и повышает скорость съёма материала заготовки. | Детонационный наноалмазный порошок (DND), полученный методом детонации, также именуется ультрадисперсным алмазом (UFD). Его получают из диссоциированного углерода в условиях высокого давления и температуры при детонации кислород‑дефицитного взрывчатого вещества. В отличие от синтетического алмаза, частицы DND имеют сферическую форму без острых краёв, а размер микрокристаллов составляет около 4–7 нм. |
| Ультратонкий полировальный порошок | Алмазный порошок | ||
| Доступно для заказа три вида ультратонких полировальных порошков: карбид кремния, оксид алюминия и оксид церия. Применяются для полировки оптических компонентов, деталей волоконно‑оптических систем, дисплейных панелей, полупроводниковых подложек, жёстких дисков, магнитных головок и т. п. | Базовые структурные элементы - микрометровые алмазные шарики. Каждый такой шарик агрегирован из субмикронных алмазных частиц. Уникальная микроструктура продукта обусловливает эффект самозатачивания, сохранение неизменной интенсивности полирующего воздействия, высокий темп съёма материала при минимизации риска образования поверхностных дефектов (царапин). | ||
Полировальные суспензии и диспергаторы |
|||
| Полировальная поликристаллическая алмазная суспензия PC | Алмазные суспензии серии MD и RCD для полировки твёрдых материалов | Полировальные суспензии SC/AO/CO | Суспензия CMP для химико‑механической полировки |
| Суспензия PC на базе поликристаллического алмаза содержит порошок PCD и растворимые в воде/масле носители, что обеспечивает оптимальную эффективность резки и полировки. Доступна адаптация состава под специфические требования заказчика. | Суспензии серии MD и RCD состоят из тщательно фракционированных порошков и обладают хорошей дисперсией. Доступны как на водной, так и на масляной основе. Полный ассортимент спецификаций позволяет удовлетворить разнообразные требования к полировке твёрдых материалов. | Серии полировальных суспензий SC/AO/CO производятся с использованием микроразмерных абразивных частиц. Они обеспечивают превосходное качество финишной обработки высокоточных оптических материалов, жёстких дисков, пластин, оптических волоконных разъёмов, магнитных головок, кристаллических соединений, керамики, твёрдых сплавов и других изделий. | Суспензия СМР изготовлена на основе коллоидного диоксида кремния с уникальной формулой, разработанной в соответствии с различными требованиями к полировке. Применяется при химико‑механической полировке различных материалов, таких как: • сапфир; • полупроводниковые материалы (например, кремний (Si), германий (Ge), арсенид галлия (GaAs), фосфид индия (InP), карбид кремния (SiC), нитрид галлия (GaN), нитрид алюминия (AlN)); • нержавеющая сталь; • алюминиево‑магниевые сплавы; • сложные кристаллы и др. |
| Полировальное масло | Высокоэффективная шлифовальная суспензия | Смазочные материалы и диспергаторы (базовая жидкость) | |
| Масло для полировки PGE — это полировальный состав с хорошей текучестью и проникающей способностью. Он обеспечивает надёжную смазку при обработке поверхностей и улучшает качество финишной отделки. | Водорастворимый притир (полировальный агент), который преимущественно используется совместно с карбидом бора (B₄C) в процессе двусторонней притирки сапфира. Обеспечивает высокую скорость съёма материала, а также обладает хорошими охлаждающими, смазывающими и антикоррозионными свойствами. Благодаря этому эффективно повышается использование карбида бора и снижается себестоимость производства. | Смазочные материалы можно смешивать с абразивными материалами, например, с алмазным порошком. Обеспечивают хорошее диспергирование и эффект суспензии, повышает силу абразивного шлифования и позволяет добиться превосходного эффекта шлифовки и обработки.По запросу заказчиков доступны индивидуальные решения | |
Полировальные диски, алмазная паста, воск, антистатический очиститель |
|||
| Полировальные диски | Алмазная паста | Воск для полировки | Антистатический очиститель |
| Имеют уникальную микропористую структуру, которая обеспечивает стабильную полировку, устойчивость к истиранию и хорошее удерживание полировальной жидкости в процессе обработки. Используются в процессах высокоточного выравнивания (плоской полировки), включая обработку пластин, стекла, керамики, металлов и других материалов. | Алмазная паста включает серии как поликристаллических, так и монокристаллических алмазов, изготовленные по уникальной рецептуре. Стабильность качества обеспечивается на всех этапах — от производства алмазного порошка до изготовления компаунда. | • Твёрдый воск представляет собой специализированный термоплавкий клей. Используется для надёжного крепления опорной плиты к заготовке в процессах односторонней обработки — таких как резка, шлифование или полировка. • Жидкий воск представляет собой прецизионный клеевой состав. | Антистатический очиститель Dewax предназначен для полного удаления восковых слоёв с поверхности. Является сопутствующим продуктом к твёрдому воску. Основное применение — очистка от воска сапфировых подложек, LED‑чипов и иных изделий в рамках технологических процессов удаления воска. |